Лазер технологияләре, тирән космосны өйрәнү һәм экстремаль ультрафиолет (EUV) литографиясе кебек тиз үзгәреш кичерүче өлкәләрдә оптик төгәллеккә ихтыяҗ атом дәрәҗәләренә җитә. Оптик һәм фотоника компанияләре өчен төгәл пыяла компонентларының сыйфаты спецификация генә түгел, ә система эшчәнлеген билгеләүче фактор булып тора.
ZHHIMG төркемендә без бу компонентларны җитештерү өчен материалны кисү генә түгел, ә яктылык һәм матдә физикасын үзләштерү кирәклеген аңлыйбыз. Бу мәкаләдә оптик пыяланың мөһим кулланылышлары һәм без үтә төгәл оптика нигезләрен тәэмин итү өчен җиңеп чыга торган катлаулы җитештерү кыенлыклары карала.
Мөһим кушымталар: төгәллек мөһим булган урыннар
Оптик пыяла - заманча фотоника нигезе. Элемтәдән алып саклануга кадәр, бу компонентларга таләпләр барган саен катгыйлана бара.
1. Лазерлы ядро термоядролыгы һәм көчле лазер системалары
Югары куәтле лазер системаларында оптик компонентлар зур энергия тыгызлыгына чыдам булырга тиеш. Пыяладагы теләсә нинди микроскопик кимчелек яки пычрак лазер китергән зыянга китерергә мөмкин, бу бөтен системаның эшчәнлегенә зыян китерә. Монда җитештерүнең төп максаты - җир асты зыянын бетерү һәм нурның бозылуын булдырмау өчен югары бер төрлелекне тәэмин итү.
2. Космик оптика һәм тирән космосны ачыклау
Космик телескоплар һәм дистанцион зондлау җайланмалары диафрагма зурлыгы арткан саен (хәзер 4 метрдан артып китә), җиңеллек һәм өслек төгәллегенә ихтыяҗ көчәя. Космос өчен оптик компонентлар экстремаль җылылык мохитендә үз формаларын сакларга тиеш, бу исә бик түбән җылылык киңәю коэффициентлары булган материалларны таләп итә.
3. Ярымүткәргеч һәм EUV литографиясе
Ярымүткәргечләр сәнәгатендә EUV литография системалары өслек тигезсезлеге 0,1 нм (RMS) тан кимрәк булган чагылдыргыч көзгеләргә таяна. Хәтта атом дәрәҗәсендәге бөгелүләр дә яктылыкны чәчәргә һәм чипның чишелешен бозарга мөмкин. Бу оптик пыяла җитештерүнең иң югары ноктасын күрсәтә.
Җитештерүдәге кыенлыклар: киеренкелек, яссылык һәм шомалык
Бу кушымталар өчен кирәкле сыйфатка ирешү җитештерү процессында өч төп киртәне җиңүне үз эченә ала.
1. Эчке стрессны контрольдә тоту
Калдык көчәнеш - оптик тотрыклылыкның дошманы. Ул ике яклы сыну (сыну күрсәткечен үзгәртү) китереп чыгарырга һәм җылылык йөкләнеше астында ярылуга китерергә мөмкин.
- Проблема: Каты, сынган пыяланы эшкәртү еш кына микрокөчәнешләр китерә.
- Безнең ысул: Без алдынгы җылыту процессларын һәм аз зыян китерә торган формалаштыру ысулларын кулланабыз. Суыту тизлеген катгый контрольдә тоту һәм киеренкелекне киметү ысулларын куллану аша, без пыяланың эчке структурасының нейтраль һәм тотрыклы булып калуын тәэмин итәбез.
2. Бик югары яссылыкка ирешү (түбән ешлыклы төгәллек)
Оптиканың югары төгәллекле нигезләре һәм көзгеле субстратлар өчен өслекнең "формасы" бик мөһим.
- Проблема: Традицион шомарту дулкынлылык калдырырга яки дулкын фронты төгәллеген киметә торган хаталар тудырырга мөмкин.
- Безнең ысул: Без югары төгәллекле компьютер белән идарә ителә торган оптик өслекләү (CCOS) кулланабыз. Бу безгә түбән ешлыклы хаталарны (форма тайпылышларын) төзәтергә, еш кына 1 нм дан кимрәк булган пик-үзәнлек (PV) кыйммәтләренә ирешергә мөмкинлек бирә, шуның белән оптик юлның камил тигезләнгән булуын тәэмин итә.
3. Өслекнең тигезсезлеге (Югары ешлыклы тигезлек)
Сибелә торган матдәләр югары ешлыклы өслек текстурасы аркасында барлыкка килә.
- Проблема: Шылау нәтиҗәсендә калган "томан"ны һәм микро тырнакларны бетерү өчен материалны бетерүдән өслекне тигезләүгә күчү кирәк.
- Безнең ысул: Без алдынгы полировкалау технологияләрен кулланабыз, шул исәптән магнит ярдәмендә эшкәртү. Бу ысул катлаулы формаларны (мәсәлән, ирекле форма линзаларын) партияләп эшкәртү мөмкинлеген бирә, шул ук вакытта яңа җир асты зыяны китермичә, нанометрдан түбән өслек тигезлегенә (Ra < 0,6 нм) ирешә.
ZHHIMG: Сезнең ультра төгәллек өлкәсендәге партнерыгыз
Чимал пыяладан функциональ оптик компонентка күчү - нанотехнология аша сәяхәт. ZHHIMG төркемендә без материал фәне һәм төгәл инженерия арасындагы аерманы бетерәбез.
Безнең мөмкинлекләребезгә түбәндәгеләр керә:
- Катлаулы геометрияләр: Ирекле, асферик һәм яссы оптик компонентларны эшкәртү.
- Метрология һәм тикшерү: Реаль вакыт режимында өслек сыйфатын һәм форма төгәллеген тикшерү өчен интерферометрлар һәм профилометрлар куллану.
- Материаллар буенча осталык: Эретелгән кремний, кварц һәм югары үткәрүчәнлек һәм түбән киңәю белән билгеле махсуслаштырылган оптик күзлекләр белән тирән тәҗрибә.
Йомгак
Оптик системалар мөмкин булган чикләрне киңәйткән саен, төгәл пыяла компонентларын җитештерү
Оптик системалар мөмкин булган чикләрне киңәйткән саен, төгәл пыяла компонентларын җитештерү
Бастырып чыгару вакыты: 2026 елның 9 апреле